Китайските производители на микрочипове се обърнаха към правителството със заявка за създаване на вътрешна аналитика на ASML.

Китайските лидери на полупроводниковата индустрия призовават за национална координация при развитието на EUV‑литографията (2026–2030)

В статия, публикувана в рамките на специален издание, най-висшите ръководители на най-големите китайски компании в областта на микропроизводството представиха единен план за действие. Целта – синхронизиране на усилията по развитие на литографични системи и така повишаване на технологичната независимост на страната.

Кой се изказа Кратко съдържание на призив Чжао Цзиньжун (Naura Technology Group) Призова да обединят националните ресурси за интеграция на пробивни разработки, получени в различни институти. Чэнь Наньсян (Yangtze Memory Technologies Corp.) Счита необходимостта от създаване на „китайска ASML“, за да се преодолее бариерът от външните доставки и да се повиши самостоятелността. Лю Вейпин (Empyrean Technology) Подчерта важността на разпределението на средства и човешки ресурси за създаване на интегрирана компания. Представители на водещите институти в полупроводниковата индустрия посочиха ключови слабости: софтуер за автоматизация на проектирането, материали за силиконови плочи и газови технологии.

Защо сега е толкова важно
* Ограниченията на износа от САЩ (от 2020 г.) ограничават достъпа на Китай до технологии под 7 nm, правейки EUV‑литографията критично важна.

* ASML е единственият в света доставчик на машини за EUV-литография. Оборудването се състои от 100 000 компонента от 5 000 доставчици; ASML само ги сглобява.

* Вътрешни пробиви: Китай постигна значителни успехи в отделни области (EUV‑лазери, производство на силиконови плочи, оптични системи), но интеграцията на тези технологии остава сложна задача.

Ключови направления за работа
1. Създаване на една обща платформа за изследвания и разработка на напреднали устройства и компоненти.
2. Развитие на софтуер за автоматизация на проектирането на електроника.
3. Укрепване на материалознанието: производство на висококачествени силиконови плочи и газове, необходими за EUV‑литографията.
4. Налагане на национална координация в рамките на петгодишния план (15‑тата петгодишна програма).

Оценка на текущото положение
* Китай занимава около 33 % от световния пазар на микропроизводство при зрелите технологични процеси (28 nm и по-големи).
* В тези сегменти страната има значителен потенциал както в проектирането, така и в производството.

В крайна сметка експертите изискват от правителството незабавно да разработят планове за реализиране на интеграцията на всички ключови компоненти на EUV‑литографията. Това ще позволи създаването на собствена „ASML“ и осигуряване на независимост на Китай в критично важни технологии на микропроизводството.